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2024-11-18 | 自立晚報

明遠半導體設備關鍵技術 穩固全球供應鏈地位

【記者柯安聰台北報導】明遠精密(7704)18日舉辦上櫃前業績發表會,該公司產品主要為半導體臭氧供氣系統、遠端電漿源、射頻電源系統及技術維修服務,主要應用於半導體製程中的化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)等關鍵製程。

為因應2050淨零碳排的目標,環境部採「碳費先行」政策,預計在2025年向首波重點企業徵收碳費;因此,各大企業積極在每個環節中致力減碳。明遠精密其中主力產品之一ACME(射頻電源系統)是高度節能半導體設備,能有效協助客戶大幅減碳,節能效果最高更達68.7%,深受晶圓代工大廠等客戶青睞,成為製程標準機台配置;截至今年6月底已出貨200餘套,每年協助客戶減少23座大安森林公園的碳排放量。

明遠半導體設備關鍵技術 穩固全球供應鏈地位

(圖)明遠精密18日舉辦上櫃前業績發表會,該公司產品主要為半導體臭氧供氣系統、遠端電漿源、射頻電源系統及技術維修服務,主要應用於半導體製程中的化學氣相沉積(CVD)和原子層沉積(ALD)等關鍵製程。圖為寇崇善董事長(左3)率領經營團隊合影。

明遠精密的產品在半導體製程中扮演著關鍵角色。高效節能射頻電源系統用於CVD製程,確保氣體分子在沉積過程中均勻裂解和反應,形成高質量薄膜。臭氧供氣系統則用於ALD製程,有助於提高薄膜均勻性和致密性,對提升半導體元件性能至關重要。遠端電漿源主要用於腔體清潔,能有效去除製程殘留物,同時減少對腔體的損傷,延長設備壽命。隨著半導體製程持續向更先進節點發展,CVD和ALD製程在晶片製造中的重要性與日俱增,明遠精密產品能夠滿足先進製程對薄膜品質、均勻性和精確控制的嚴格要求,為客戶提供高效、穩定且環保的解決方案。

與同業相比,明遠精密亦擁有多項領先市場的競爭優勢。在半導體臭氧技術領域,該公司是台灣唯一具備12吋半導體臭氧供氣(Ozone)設備維修技術自主開發能力的企業,公司不僅能自製關鍵部件如發生器、控制器、壓力控制器和感測器等,還推出自有品牌「Finesse AOS」系統,已成功進入ALD製程並累計出貨超過30套。

此外,在遠端電漿源(RPS)技術方面,明遠精密是台灣首家自行開發RPS設備的公司,其研發成果已通過經濟部A+研究計畫,並申請多項專利;公司兼具品牌、ODM和OEM製造與維修能力,展現全方位的技術實力。

明遠精密今年前3季累計營收為5.74億元,稅後淨利7637.8萬元,EPS 2.5元。營收佔比部分,技術服務49%、自有品牌30%、半導體備品買賣21%。為求持續站穩領先地位,公司每年亦持續投入大量研發成本進行產品開發與更新,不僅已成功進入國際半導體設備龍頭廠的供應鏈,還透過其優質的技術維修服務與研發實力,穩步擴展全球市場佈局,在國際供應鏈中扮演重要角色。其半導體臭氧供氣系統Ozone Generator技術更已在全球主要的半導體設備製造商中廣泛應用,隨著半導體產業與先進製程的需求持續上揚,明遠精密後續營運動能相當樂觀。(自立電子報2024/11/18)
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