資騰參加SEMICON China 秀超潔淨刷輪增製程良率

佳世達科技（2352）旗下資騰科技參加SEMICONChina國際半導體展，展示採化學機械研磨（ChemicalMechanicalPolishing；CMP）超潔淨空氣聚乙烯醇（PVA）刷輪，因應埃米時代對晶圓潔淨與先進製程穩定性的高度要求。

資騰科技表示，PVA刷輪可有效降低微粒與製程殘留，縮短預清潔時間，並減少晶圓空片用量，同時達到100%去離子水透水率，全面強化先進製程與封裝良率。

資騰總經理陳國榮表示，隨著半導體製程邁向更先進的埃米世代（10埃米等於1奈米），材料與設備技術的整合能力將成為產業關鍵，將持續導入全球創新技術，並透過在地化技術服務，協助客戶打造更高效率且更永續的半導體製造環境。

資騰指出，晶圓表面工程需在奈米級缺陷控制、材料保護與量產成本之間取得平衡，為影響先進製程與先進封裝良率的重要關鍵。在先進製程中，平整度不僅決定電路圖案能否「印得準」，更直接影響先進封裝晶片堆疊時是否能「貼得緊」，是決定半導體製造良率的重要環節。

針對先進製程挑戰，資騰說明，本次展出化學機械研磨超潔淨空氣聚乙烯醇（PVA）刷輪，在實際製程測試中可降低微粒與製程殘留物，並將預清潔時間（break-intime）縮短，減少晶圓空片（dummywafer）的用量，同時達到100%去離子水透水率，在清洗過程中有效降低用水量，使整體製程降低化學機械研磨製程用水，進一步提升產線稼動率與降低資源消耗。

另外，PVA刷輪採用空氣發泡技術，材料具備無澱粉殘留特性，擁有業界最低金屬粒子與液體微粒子檢出量，減少化學殘留與細菌滋生。

資騰積極拓展新興應用領域，包括矽光子設備與人工智慧（AI）伺服器雙相浸沒式冷卻技術，透過整合設備、材料與自動化技術，持續提供半導體與先進電子產業多元製程解決方案。

資騰將於2026年3月25日至27日參加SEMICONChina國際半導體展，於上海新國際博覽中心N3館，展示各項先進製程解決方案。