2奈米戰局台積電大幅領先！三星良率低於平均卡關

隨著先進製程競賽進入2奈米世代，台積電與三星電子之間的差距正逐步擴大。最新報告指出，三星在2奈米環繞閘極（GAA）製程上遭遇瓶頸，良率仍停留在約50%至55%區間，且在後段製程完成後，可能進一步下滑至40%。記者黃仁杰／編譯

隨著先進製程競賽進入2奈米世代，台積電與三星電子之間的差距正逐步擴大。最新報告指出，三星在2奈米環繞閘極（GAA）製程上遭遇瓶頸，良率仍停留在約50%至55%區間，且在後段製程完成後，可能進一步下滑至40%。

隨著先進製程競賽進入2奈米世代，台積電與三星電子之間的差距正逐步擴大。（圖／AI生成）

業界普遍認為，約50%的良率僅代表製程已能「運作」，但尚未達到商業化量產門檻。若要吸引高通等大型客戶，2奈米良率通常需達70%以上，而三星目前仍未達標，顯示其技術仍處於早期階段，尚不足以大規模擴產或承接更多訂單。

不過，三星在短時間內的進展仍值得關注。報導指出，2025年下半年其2奈米良率僅約20%，不到一年已提升至50%以上，進步幅度顯著。由於三星並未公開相關數據，市場上的良率資訊多來自業界推測，實際情況仍有不確定性。

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儘管面臨技術挑戰，三星仍持續爭取客戶。消息指出，公司已取得特斯拉與部分中國加密貨幣設備業者的晶片訂單，顯示市場仍願意給予其一定機會。

在產能布局方面，三星位於美國德州Taylor的新廠即將進入試產階段，預計今年發表的Exynos 2700處理器，有望成為首批採用第二代2奈米GAA製程的產品之一。

雖然三星持續推進先進製程技術，但在良率與量產能力尚未成熟的情況下，其作為台積電替代方案的競爭力仍備受市場檢視。

來源：wccftech

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