台積電2奈米洩密案 3被告延長羈押禁見2個月

台積電離職工程師陳力銘、在職工程師吳秉駿、戈一平涉洩漏關鍵技術，遭檢方依違反國安法等罪起訴。智商法院9月1日裁定3人羈押禁見3個月，今天再裁定3人羈押禁見2個月。

智慧財產及商業法院裁定表示，被告等3人雖於法院訊問時坦承犯行，但對於所涉犯罪情節、手段、目的的供詞，確曾前後所述不一，並對犯罪細節避重就輕，且檢察官已當庭表示本案尚在追查東京威力科創股份有限公司等涉案共犯。

裁定提到，被告等3人（曾）現為同事關係，並在案發後均有刪除通訊軟體對話紀錄的疑似湮滅證據舉措，有事實足認有勾串共犯、湮滅證據之虞。

另外，被告等3人所涉犯罪情節是擅自拍攝而重製內含台積電公司內部關於製程、技術等可用於生產或經營的營業秘密資訊，其中部分資訊涉及國家核心關鍵技術，而此類犯罪事實的調查，需勾稽比對相關通訊軟體對話紀錄、電磁紀錄與共犯間供述，釐清確認全案犯罪細節，原羈押原因現仍存在。

智商法院認為，被告等3人所涉犯罪，不僅損及個別企業利益，並危及國家整體安全，權衡刑事司法權有效行使、被告人身自由私益及防禦權受限制程度，為確保日後審判及刑罰執行程序得以順利進行，仍有繼續羈押的必要，因此裁定3人自12月1日起延長羈押2月，並禁止接見、通信。

台灣高檢署智慧財產檢察分署起訴指出，陳力銘曾任台灣積體電路製造股份有限公司12廠良率部門工程師，離職後進入台積電的半導體製造設備供應商東京威力科創股份有限公司行銷部門。

檢方表示，陳力銘於民國112年下半年至今年上半年間，為了替東京威力公司爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商，多次要求當時在職的台積電工程師吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密，拍攝重製後俾利東京威力公司檢討改善蝕刻機台表現，以爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台資格。

台積電發覺異常後內部調查，懷疑有在職與離職員工非法取得關鍵技術與營業秘密，7月8日提出告訴。智財分署檢察官7月25至28日指揮調查局發動搜索、約談，訊後將陳力銘、吳秉駿、戈一平聲請羈押禁見獲准。

智財分署於8月27日依營業秘密法意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪、國家安全法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪起訴3人，並求處陳力銘應執行有期徒刑14年、吳秉駿應執行9年徒刑、戈一平7年徒刑。