台積電擴大投資 124 億美元買EUV曝光機
由於投資者對人工智慧(AI)產品興趣激增,台積電 2 奈米下一代半導體技術的強勁需求,計畫明年將增加資本支出,將創下該公司史上第二高金額,最大受益者將是荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)。
編譯/莊閔棻
由於投資者對人工智慧(AI)產品興趣激增,台積電 2 奈米下一代半導體技術的強勁需求,計畫明年將增加資本支出。消息人士稱,台積電 2024 年資本支出可能在 320 億美元至 360 億美元之間,增長 12.5% 至 14.3%,創下該公司史上第二高金額,最大受益者將是荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)。
台積電訂購大量ASML曝光機
據報導,台積電 2024到2025 年將接收超過 60 台的ASML極紫外光微影製程(EUV) 曝光機,使今明兩年的 EUV 曝光機投資將超過 124 億美元。目前ASML的EUV曝光設備供不應求,從訂購到交付的整體週期達到16至20個月,而台積電將於今年和明年分別訂購約 30 台和 35 台 EUV 曝光機,其中大部分訂單將於 2026 年開始交付。
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主要用於2和3奈米先進晶片
在台積電 2024 年第一季財報電話會議上,管理層強調,該公司 2024 年的資本支出將在 280 億美元至 320 億美元之間,高層表示,支出取決於長期需求趨勢,並補充說,多達 80% 的預算將用於製造 3 奈米和 2 奈米等先進晶片。
擴大在台 2 奈米晶片生產
此外,供應鏈消息人士也認為,由於台積電對其 2 奈米產品的需求強於預期,該公司計畫增加該技術的額外製造能力,其中包括在台灣南科地區的製造基地增加 2 奈米產能,擴大已計畫在竹科寶山新工廠和高雄工廠的 2 奈米產能,若累積起來,台積電將能夠在遍佈台灣的八家工廠生產先進晶片。
參考資料:wccftech、Passionate Geekz
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