台積電攜手輝達推cuLitho創新工具 加速晶片設計步伐

輝達的主要晶片製造商台積電正採用該公司開發的 cuLitho 平台，一套專門針對運算式微影過程的工具，幫助加速輝達最新 GPU 的生產，包括 H200 系列和備受期待的 Blackwell 架構。

編譯／黃竣凱

輝達的主要晶片製造商台積電正採用該公司開發的 cuLitho 平台，一套專門針對運算式微影過程的工具，幫助加速輝達最新 GPU 的生產，包括 H200 系列和備受期待的 Blackwell 架構，儘管 Blackwell 架構曾因硬體問題而推遲，但此技術有望助力台積電克服生產挑戰。

cuLitho 加速計算運算式微影過程

據報導，輝達開發的 cuLitho 工具庫，能透過 GPU 加速將某些運算式微影的計算速度提升至 40 倍。對於台積電這樣的晶片製造商來說，這可以顯著減少設計和生產的時間，輝達指出，通常製作一套晶片的光罩需要 3000 萬小時的 CPU 計算時間，而 cuLitho 庫僅需 350 顆 H100 GPU 就能取代大量伺服器，進而減少成本、空間和能源消耗。

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光罩製作時間縮短至隔夜完成

輝達表示，在過去需要兩週時間來處理的光罩，使用 cuLitho 工具庫能夠在一夜之間完成，而且每天可生成的光罩數量增加 3 到 5 倍，極大地提升了晶片製造的效率。

運算式微影技術對晶片製造非常重要

運算式微影技術是晶片製造中非常重要的步驟，像台積電這樣的公司透過演算法和模擬，來優化製作晶片所需的光罩，在晶片特徵縮小至奈米級的情況下，這一過程變得愈加複雜且耗時，但確保晶片上細微結構的精準度仍非常重要。

台積電與輝達攜手推動生產流程變革

台積電執行長魏哲家於今年早些時候的輝達GTC 大會上表示，「我們與輝達的合作，將 GPU 加速計算整合進台積電的生產流程，已經取得了顯著的性能提升、驚人的產能改進、縮短的生產周期，以及減少的能耗。」

Blackwell 架構遇阻 設計缺陷已解決

台積電正在為輝達生產下一代晶片，但由於 B200 晶片處理器存在設計缺陷，Blackwell 架構的生產時間被推遲，原定今年出貨的部分批次預計將推遲至 2025 年。對此，輝達則也確認，問題已解決，並表示對這款強大 GPU 的需求已超過供應量。

參考資料：Capacity Media

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